管式提拉爐（晶體生長系統(tǒng)）

該設(shè)備為真空或者氣氛保護(hù)條件下的晶體生長設(shè)備，樣品處理位于管內(nèi)，兩端均有真空法蘭密封。上端通過壓縮波紋管和真空旋轉(zhuǎn)接頭與電機相連。可滿足樣品在真空或者氣氛條件下的旋轉(zhuǎn)和提拉。

保溫材料采用真空吸附成型的氧化鋁纖維無機材料，環(huán)保節(jié)能，不含污物，潔凈，美觀。加熱元件采用優(yōu)質(zhì)硅鉬棒，性能優(yōu)越，環(huán)形加熱結(jié)構(gòu)設(shè)計，提高設(shè)備使用穩(wěn)定性。

控溫方式：采用智能 PID 程序控制，控溫精度高、重復(fù)性好，具有超溫和斷偶報警功能。方便用戶自行探索所長晶體最適合的溫度梯度。

提拉機構(gòu)控制系統(tǒng)：采用伺服電機系統(tǒng)，提拉速度均勻穩(wěn)定，改善單晶生長環(huán)境。

設(shè)備固定裝置預(yù)留好連接桿的固定裝置，可用于連接鉑金絲或者提拉桿。(鉑金絲用戶自配)標(biāo)配有1套提拉桿，用于連接客戶生長晶體所用的籽晶桿。